1．遵循标准：GB/T 11446.1-1997 《电子级水》 2．基本处理流程： 1)原水 预处理 双级RO反渗透 混床 产水 2)原水 预处理 双级RO反渗透 EDI 抛光床 产水 3．适用范围： 适于处理生产显像管、集成电路芯片、单晶硅半导体、液晶显示器、计算机硬盘、印刷电路板等工艺所需的纯水和超纯水。 由于原水水质对处理工艺影响较大，上述的工艺流程仅为参考的基本工艺流程，详细的工艺流程需要我公司的技术人员根据原水水质、产水要求、产水量以及客户的特殊要求等条件具体设计。因此，在选用设备之前，请客户提供详细的水质分析资料及相关条件。